Mater.Phys.Mech.(MPM)
No 1, Vol. 24, 2015, pages 61-71

APPROACH FOR ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF COPPER-GRAPHITE FILMS

V.G. Konakov, O.Yu. Kurapova, N.N. Novik, A.S. Graschenko, A.V. Osipov,
I.Yu. Archakov

Abstract

The present paper describes the approaches for electrochemical deposition of copper-graphene coatings. Synthesis of initial reagents and deposition conditions both for constant current and pulse regimes are presented. Mechanical properties of the deposited films were investigated by nanoindentation. It is shown that the deposition approach significantly affects the mechanical properties of the copper-graphene films; the maximal hardness was shown for films deposited in pulse regime.

Keywords: electrochemical deposition; copper-graphite film; mechanical properties

full paper (pdf, 1904 Kb)

МЕТОДИКИ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ И МЕХАНИЧЕСКИЕ
СВОЙСТВА ПЛЕНОК "МЕДЬ- ГРАФЕН"

В.Г. Конаков, О.Ю. Курапова, Н.Н. Новик, А.С. Гращенко, А.В. Осипов,
И.Ю. Арчаков

Аннотация

Настоящая работа посвящена методикам электрохимического осаждения покрытий на основе системы "медь - графен". Описаны условия синтеза покрытий и приведены результаты исследования их механических свойств методом наноиндентирования. Показано, что структура и механические свойства осажденных пленок существенно зависят от методики электрохимического осаждения. Наибольшая твердость отмечена для покрытий, полученных при электрохимическом осаждении в импульсном режиме.

Ключевые слова: электрохимическое осаждение; пленка "медь-графен"; механические свойства

full paper (pdf, 1904 Kb)