ipmash@ipme.ru | +7 (812) 321-47-78
пн-пт 10.00-17.00
Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН ) Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН )

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

Epitaxial stabilization of α-Ga2O3 layers grown on r-plane sapphire

Авторы:
V.I. Nikolaev , A.Y. Polyakov , S.I. Stepanov , A.I. Pechnikov , L.I. Guzilova , M.P. Scheglov , A.V. Chikiryaka ,
Страницы:
001-009
ДОИ (doi):
Аннотация:

In this work, we study the thermal stabilization of metastable α-Ga2O3 in growth experiments. Gallium oxide films are grown on c- and r-plane sapphire substrates by halide vapor phase epitaxy (HVPE) at the temperature range of 450-690 oC. The surface morphology is investigated by scanning electron microscopy. The structural quality and phase composition of the grown films is studied by X-ray diffraction. It is found that the use of r-plane sapphire substrates prevents the formation of the orthorhombic κ-Ga2O3 and monoclinic β-Ga2O3 and thus extends the growth process window for the deposition of the rhombohedral α-phase of gallium oxide.

Файл (pdf):
15:52
1252
Используя этот сайт, вы соглашаетесь с тем, что мы используем файлы cookie.