ipmash@ipme.ru | +7 (812) 321-47-78
пн-пт 10.00-17.00
Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН ) Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН )

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

The analysis of the etch pits parameters in the (2 ̅01) plane of the β-Ga2O3 substrate crystals

Авторы:
A.A. Zarichny, P.N. Butenko, M.E. Boiko, M.D. Sharkov, V.I. Nikolaev ,
Страницы:
046-051
ДОИ (doi):
Аннотация:

Selective wet etching technique was applied to commercial ( ) β-Ga2O3  single crystal substrates. Some etching recipes allowed us to reveal sharp etch pits on the surface of the substrates. The geometric shape, orientation and density of etch pits were investigated in as-delivered specimens. An observation of mutual location of the etch pits indicates the likely formation low-angle grain boundaries that can form upon heating. Selective wet etching technique was applied to commercial ( ) β-Ga2O3   single crystal substrates. Some etching recipes allowed us to reveal sharp etch pits on the surface of the substrates. The geometric shape, orientation and density of etch pits were investigated in as-delivered specimens. An observation of mutual location of the etch pits indicates the likely formation low-angle grain boundaries that can form upon heating.

Файл (pdf):
17:09
530
Используя этот сайт, вы соглашаетесь с тем, что мы используем файлы cookie.