ipmash@ipme.ru | +7 (812) 321-47-78
пн-пт 10.00-17.00
Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН ) Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН )

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

Mechanisms and kinetics of the initial stages of growth of films grown by chemical vapor deposition

Год(ы):
1997
Авторы:
Название издания:
Technical Physics
Том издания:
42
Выпуск издания:
12
Страницы издания:
846 - 852
Используя этот сайт, вы соглашаетесь с тем, что мы используем файлы cookie.