ipmash@ipme.ru | +7 (812) 321-47-78
пн-пт 10.00-17.00
Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН ) Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН )

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

Pendeo-epitaxy of stress-free AlN layer on a profiled SiC/Si substrate

Год(ы):
2016
Квартиль:
Q1
Название издания:
Thin Solid Films
Выпуск издания:
606
Страницы издания:
74-79
Используя этот сайт, вы соглашаетесь с тем, что мы используем файлы cookie.