ipmash@ipme.ru | +7 (812) 321-47-78
пн-пт 10.00-17.00
Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН ) Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН )

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

Kinetics of laser-induced oxidation of silicon near room temperature

Год(ы):
2006
Авторы:
д.ф.м.н. Осипов А.В. , Patzner P. , Hess P. ,
Название издания:
Applied Physics A: Materials Science and Processing
Том издания:
82
Выпуск издания:
2
Страницы издания:
275 - 280
Используя этот сайт, вы соглашаетесь с тем, что мы используем файлы cookie.