ipmash@ipme.ru | +7 (812) 321-47-78
пн-пт 10.00-17.00
Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН ) Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН )

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт проблем машиноведения Российской академии наук

Ученые ИПМаш предложили новый принцип цифровой разработки технологии материалов для микроэлектроники

Специалисты Института проблем машиноведения РАН (ИПМаш РАН) разработали и успешно апробировали новый подход к моделированию роста кристаллов, который позволяет за доли миллисекунды предсказать их свойства и дефектность. Это открытие знаменует собой переход от дорогостоящего и длительного экспериментального подхода к созданию технологии синтеза материалов к её полной сквозной цифровой разработке – от предсказания кристаллической структуры до проектирования промышленного оборудования для синтеза.

Высококачественные кристаллы и тонкие пленки лежат в основе современных технологий — от микроэлектроники до лазерной техники. Хотя ученые уже научились предсказывать структуру новых перспективных материалов с помощью квантовой химии и искусственного интеллекта, ключевой проблемой остается разработка технологии их промышленного синтеза. Существующие фундаментальные теории роста кристаллов плохо справляются со сложными многокомпонентными системами, из-за чего процесс оптимизации условий роста превращается в многолетнюю и крайне затратную рутину, требующую тысяч пробных экспериментов.

Ученые ИПМаш РАН предложили решение, которое кардинально меняет ситуацию.

«Мы смогли преодолеть главное ограничение — разрыв между атомистическим и макроскопическим моделированием. Наш метод объединяет два мира: мы генерируем огромные массивы данных на уровне атомов, а затем “учим” на них искусственный интеллект, который с феноменальной скоростью предсказывает поведение кристалла в реальных ростовых установках. Фактически, мы создали “цифровой двойник” процесса эпитаксиального роста, который работает с точностью и быстродействием, недостижимых для классических теорий и численных методов», — комментирует ведущий научный сотрудник ИПМаш РАН Алексей Редьков.

В основе метода лежит гибридная атомистическая модель, реализованная на графических процессорах (GPU). Это позволило впервые смоделировать систему, содержащую около 600 миллионов атомов на больших временах, что является рекордным значением, приближающимся к макроскопическим масштабам. На этой модели было проведено 10 000 виртуальных экспериментов, охвативших все возможные сочетания ростовых условий, возникающие явления и особенности процесса роста.

Полученные данные использовали для обучения моделей машинного обучения. Обученная ИИ-модель не только выявила скрытые взаимосвязи в процессе роста, но и научилась предсказывать его результат. Критическое преимущество — скорость: модель выдает прогноз за доли миллисекунды, что значительно быстрее прямого атомистического моделирования на GPU.

Разработка представляет собой переход от аналитических теорий с их упрощениями к data-driven (основанной на данных) методологии. Высокая скорость предсказания открывает путь к интеграции ИИ-модели в макроскопическое моделирование промышленных ростовых реакторов, где она сможет служить точным граничным условием. Это решает проблему мультимасштабного моделирования, связывая атомарный и макроуровень.

Методология применима к ключевым технологиям эпитаксии, таким как МЛЭ, MOCVDи HVPE. Она позволит в разы ускорить разработку и оптимизацию синтеза кристаллов для полупроводниковой промышленности, фотовольтаики и квантовых технологий. В перспективе это станет последним звеном в создании полностью цифрового контура проектирования технологии и оборудования для промышленного синтеза новых перспективных материалов с необходимыми свойствами.

Работа опубликована в Acta Materialia.

12:02
87
Используя этот сайт, вы соглашаетесь с тем, что мы используем файлы cookie.