ipmash@ipme.ru | +7 (812) 321-47-78
пн-пт 10.00-17.00
Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН ) Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН )

Institute for Problems in Mechanical Engineering
of the Russian Academy of Sciences

Institute for Problems in Mechanical Engineering of the Russian Academy of Sciences

Epitaxy of silicon carbide films on silicon by the method of substitution of atoms to grow wide-bandgap semiconductors

Worker:
Telyatnik R.S. , c.o.p.a.m.s. Redkov A.V. , Lavrova T.V. , d.o.p.a.m.s. Osipov A.V. , c.o.p.a.m.s. Grashchenko A.S. , Kandakov A.V. , Антипов В. В.; Бенеманская Г. В.; Бессолов В. Н.; Дементьев П. А.; Жуков С. Г.; Коненкова Е. В.; Лапушкин М. Н.; Рожавская М. М.; Рубец В. П.; Тимошнев С. Н.; Уголков В. Л.; Феоктистов Н. А.; Цацульников А. Ф
Number:
№14-12-01102
Year(s):
2014-2016,2017-2018(продление)
Information:

Проект был одобрен и выполнен в рамках конкурса 2014 года «Проведение фундаментальных научных исследований и поисковых научных исследований отдельными научными группами».
Продление с 2017 по 2018 год было одобрено в рамках конкурса на продления в 2017 году в рамках конкурса на продление сроков выполнения, поддержанных грантами Российского научного фонда по приоритетному направлению деятельности Российского научного фонда «Проведение фундаментальных научных исследований и поисковых научных исследований отдельными научными группами».

Используя этот сайт, вы соглашаетесь с тем, что мы используем файлы cookie.