ipmash@ipme.ru | +7 (812) 321-47-78
пн-пт 10.00-17.00
Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН ) Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН )

Institute for Problems in Mechanical Engineering
of the Russian Academy of Sciences

Institute for Problems in Mechanical Engineering of the Russian Academy of Sciences

Photoinduced self-limited low-temperature growth of ultra-thin silicon-oxide films with water vapor

Year(s):
2006
Autors:
Patzner P. , d.o.p.a.m.s. Osipov A.V. , Hess P. ,
Name Publication:
Applied Physics A: Materials Science and Processing
Volume Publication:
85
Issue Publication:
2
Pages:
145 - 150
Используя этот сайт, вы соглашаетесь с тем, что мы используем файлы cookie.