ipmash@ipme.ru | +7 (812) 321-47-78
пн-пт 10.00-17.00
Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН ) Институт Проблем Машиноведения РАН ( ИПМаш РАН )

Institute for Problems in Mechanical Engineering
of the Russian Academy of Sciences

Institute for Problems in Mechanical Engineering of the Russian Academy of Sciences

Mechanisms of epitaxial growth of SiC films by the method of atom substitution on the surfaces (100)

Year(s):
2018
Name Publication:
IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
Volume Publication:
387
Issue Publication:
1 / 012044
Используя этот сайт, вы соглашаетесь с тем, что мы используем файлы cookie.